在(zai)制(zhi)藥(yao)工業中，顆(ke)粒(li)劑型(xing)因(yin)溶(rong)解(jie)性好(hao)、劑量(liang)準(zhun)確(que)、生(sheng)物利用度(du)高等優勢(shi)占據(ju)重(zhong)要(yao)地位(wei)。
沸騰(teng)制(zhi)粒(li)幹燥(zao)機(ji)作(zuo)為集混(hun)合(he)、制(zhi)粒(li)、幹燥(zao)於壹體(ti)的核心(xin)設(she)備，通過流化床(chuang)技術實(shi)現“壹(yi)步(bu)制(zhi)粒(li)”，顯(xian)著(zhu)提升(sheng)生(sheng)產效率與顆(ke)粒(li)質量(liang)。本(ben)文(wen)從工藝原理(li)、關(guan)鍵參數控(kong)制(zhi)及(ji)質量(liang)優化策略(lve)三(san)方(fang)面(mian)，解(jie)析其(qi)在(zai)制(zhi)藥(yao)造粒(li)中的應用價(jia)值(zhi)。
壹、工藝原理(li)：流化床(chuang)技術實(shi)現高效造粒(li)
沸騰(teng)制(zhi)粒(li)幹燥(zao)機(ji)利用高溫(wen)氣流使(shi)粉(fen)末(mo)物料(liao)處於流化狀(zhuang)態，通(tong)過噴(pen)槍將(jiang)粘(zhan)合(he)劑霧(wu)化噴(pen)入(ru)，在(zai)物(wu)料顆(ke)粒(li)表(biao)面(mian)形(xing)成液(ye)橋(qiao)，經(jing)碰撞(zhuang)、聚(ju)結(jie)形成均(jun)勻多孔顆(ke)粒(li)。其(qi)核心(xin)優勢(shi)在(zai)於(yu)：
1.壹步(bu)成型(xing)：混(hun)合(he)、制(zhi)粒(li)、幹燥(zao)同步(bu)完成，縮(suo)短工藝周(zhou)期(qi)50%以上(shang)。
2.均勻度高：流化狀(zhuang)態確(que)保每(mei)顆(ke)粉(fen)末(mo)充分(fen)接(jie)觸(chu)粘(zhan)合(he)劑，粒(li)徑(jing)分(fen)布(bu)系數（Span值(zhi)）可(ke)控制(zhi)在(zai)0.8-1.2。
3.熱(re)敏保護(hu)：精(jing)確(que)控(kong)溫(wen)系統使(shi)熱敏性藥物(wu)（如(ru)抗(kang)生(sheng)素、維(wei)生(sheng)素）活(huo)性成分(fen)損失(shi)率低(di)於(yu)2%。
二、關(guan)鍵參數控(kong)制(zhi)：決(jue)定(ding)顆(ke)粒(li)質量(liang)的“黃金三角”
1.進(jin)氣(qi)溫(wen)度與濕度
初始階(jie)段(duan)：進(jin)氣(qi)溫(wen)度控制(zhi)在(zai)物(wu)料熔(rong)點以下10-15℃，避(bi)免局(ju)部過(guo)熱(re)導致結(jie)塊(kuai)。例如(ru)，頭孢類抗(kang)生(sheng)素制(zhi)粒(li)時(shi)，進(jin)氣(qi)溫(wen)度設定(ding)為55-60℃。
幹燥(zao)階段：逐步(bu)升(sheng)溫至(zhi)70-85℃，配(pei)合排(pai)濕系統將(jiang)出口(kou)濕度控制(zhi)在(zai)10g/m³以下。
2.噴霧系統優化
噴(pen)槍(qiang)位置：距物(wu)料表(biao)面(mian)25-35cm，采(cai)用切(qie)向(xiang)噴霧減少(shao)顆(ke)粒(li)磨(mo)損。
霧化壓(ya)力(li)：壓力(li)式(shi)噴嘴(zui)控制(zhi)在(zai)0.3-0.5MPa，離(li)心式(shi)噴盤(pan)轉速(su)10000-15000rpm，確保霧滴粒(li)徑(jing)D50≤50μm。
供(gong)液速(su)率：與進(jin)氣(qi)量(liang)匹(pi)配(pei)，通常按(an)物(wu)料量的5%-10%梯度(du)增(zeng)加(jia)，避(bi)免“濕核”形(xing)成。
3.流化狀(zhuang)態調(tiao)控(kong)
通過(guo)變(bian)頻器(qi)調(tiao)節進(jin)風(feng)頻(pin)率(lv)，使(shi)床(chuang)層(ceng)壓(ya)差波(bo)動範圍(wei)±30Pa以內(nei)，確(que)保(bao)物(wu)料(liao)呈(cheng)“沸騰(teng)雲(yun)”狀態。
對(dui)於高密(mi)度物(wu)料(liao)（如微(wei)晶纖(xian)維(wei)素(su)），添加(jia)0.5%-1%的二氧(yang)化矽(gui)作(zuo)為助(zhu)流劑，降低(di)床(chuang)層(ceng)阻(zu)力(li)。
三、質量(liang)優化策略(lve)：從(cong)工(gong)藝(yi)到設備(bei)的全(quan)鏈條管控
1.在(zai)線(xian)監(jian)測(ce)技術
安(an)裝(zhuang)近紅外（NIR）光(guang)譜儀實時(shi)檢(jian)測(ce)顆(ke)粒(li)水(shui)分(fen)，控(kong)制(zhi)終點含水率(lv)在(zai)1%-5%之(zhi)間(jian)。
采用激(ji)光(guang)衍射(she)法監(jian)測(ce)粒(li)徑(jing)分(fen)布(bu)，當(dang)D90超(chao)標(biao)時(shi)自(zi)動調(tiao)整(zheng)噴霧(wu)速率(lv)。
2.設備升(sheng)級(ji)方(fang)向(xiang)
頂噴+底噴復(fu)合(he)系統：頂噴用於(yu)初(chu)步(bu)造粒(li)，底(di)噴(pen)用於(yu)包(bao)衣，實現多功能壹體(ti)化。
脈(mai)沖(chong)反吹(chui)濾(lv)袋(dai)：每(mei)30秒(miao)自(zi)動反吹(chui)0.1秒(miao)，將濾(lv)袋(dai)壓差穩(wen)定(ding)在(zai)1200-1800Pa，減少(shao)細(xi)粉(fen)逃(tao)逸。
3.清(qing)潔驗證體(ti)系
采用CIP（原地(di)清(qing)洗(xi)）系統，用75℃氫(qing)氧(yang)化鈉(na)溶(rong)液循環(huan)清洗(xi)30分(fen)鐘(zhong)，確(que)保(bao)交(jiao)叉汙(wu)染(ran)風(feng)險＜0.001%。
對(dui)316L不(bu)銹(xiu)鋼(gang)接觸(chu)面(mian)進(jin)行電(dian)拋(pao)光(guang)處理(li)，粗(cu)糙度Ra≤0.4μm，防(fang)止(zhi)藥物(wu)殘(can)留(liu)。
實(shi)踐(jian)案例(li)：某藥企(qi)應用優化後(hou)的沸騰(teng)制(zhi)粒(li)工(gong)藝(yi)生(sheng)產Amoxicillin顆(ke)粒(li)，粒(li)徑(jing)分(fen)布(bu)D10/D50/D90從(cong)120/250/450μm優化至(zhi)150/300/480μm，溶(rong)出度(du)從82%提升(sheng)至91%，單(dan)批次生(sheng)產時(shi)間(jian)從8小時(shi)縮(suo)短至5小時(shi)。從(cong)經(jing)驗(yan)驅動到數據(ju)驅動，沸騰(teng)制(zhi)粒(li)幹燥(zao)機(ji)正成為制(zhi)藥(yao)工業4.0時(shi)代(dai)造粒(li)環(huan)節的智能(neng)化標(biao)準。
